某光电器件电子器件研制厂在晶圆激光加工步骤中，应用硅烷进行硅外延性生张，烟气清洗塔产生高溶度含硅工业废水治理。工业废水治理有pH跌涨大（2-11）、硅含氧量高的特征 ，传统性治理的方式易发生硅垢淤塞问題。 废水处理工艺成份及来源于 废水处理方法基本的成分为： 消融性硅酸盐 ：SiO₂溶液浓度达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢阳极氧化钠 ：清洗塔酸碱平衡清洗液余留 科粒硅 ：奈米级SiO₂固体 痕量砷 ：主要原料其它杂物融入 解决生产工艺施工顺序 全新采取"两极采和+膜过滤器+蒸馏心得"生产技术： 五级与 ：用CaO调理pH至4-5，转化成硅酸钙放置，硅除去率60%。 二级考试采和 ：加Na₂CO₃将pH增强至9，进一大步悠长岁月中所剩硅，串联用镁剂除砷。 反渗透膜系统化 ：0.02μm陶瓷制品膜油烟净化器纳米技术级硅颗粒剂，通量维持在80LMH。 MVR蒸馏器 ：果汁高盐污废水 ，晶体出Na₂SO₄副软件，水回收利用率超90%。 之后目的 总硅从1500mg/L下降5mg/L下类 砷水平从0.8mg/L高于0.01mg/L 设计无积垢运动多于2年 第一年回收公司氢氧化钠钠多晶体约800吨