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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为8寸大晶圆加工线模块化的超超纯水模式,没天呈现含硅电镀废水150吨。电镀废泥中虽无高价属,但硅成分高易水垢,且阻值率需提高18MΩ·cm才可中水回用。原始处置技术没有办法具备新发布的《电子设备化学工业水的空气污染物直接摆放基准》(GB39731-2020)比较直接摆放限制值。 电镀废水部分亮点 首要废弃物物 :氢氧化铁硅(200-300mg/L)、颗粒剂硅(比表面积0.1-1μm) 特别的特殊要求 :TOC<10μg/L,硼含锌量<5μg/L 水质标准基本特征 :低电阻率(<50μS/cm)但硅氧化物社会形态复杂化 解决生产工艺环节 创新发展采用了"梯级膜提取+电去铁离子"三人组合的工艺: 微滤预处置 :1μm陶瓷厂家膜手机拦截大颗粒物硅,通量能维持80LMH 铝离子交流环氧树脂 :D201大孔不饱和树脂选泽性吸收硅酸分子式 中级RO体系 :第1段回收处理率60%,2、段主要采用高脱硼膜电子器件 EDI电去阴阳离子 :电流大小硬度2A/m²,持续保持清理残留物阴阳离子 太阳光的紫外线消菌 :254nmUV太阳辐射线的用药量40mJ/cm² 科技闪光点 开发技术专用箱阻硅剂(可挥发胺类混合物),延长时间膜环保问题定期3倍 EDI模块电源技术创新流道规划,硅出掉率不断提升至99.8% 上线硅深入分析仪器(自动量程之内0.1-500μg/L)进行精准性的调节 正常运行功效 经第一方查测: 总硅从280mg/L降到0.05mg/L 硼含磷量从8μg/L低于0.3μg/L 系统的收购 率从原40%提高了至68% 膜拆卸时间是延长至至5年,年进行投入消减35%

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